Method of forming an integrated avalanche photodiode

WO2024128976 Art A1 20. Juni 2024

Anmelder: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024128976
Aktenzeichen
EP23904130
Anmeldetag
11. Dezember 2023
Veröffentlichung
20. Juni 2024
Rechtsraum
WO
IPC
G02B6/12H01L31/107
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
Land
🇸🇬 Singapur
🇸🇬 National University of Singapore

Staatliche Universität in Singapur, eine der größten und international bestbewerteten Hochschulen Asiens. Sie ist in Forschung und Lehre breit aufgestellt, mit starken Ingenieur- und Naturwissenschaftsfakultäten.

2.004 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen