Lithographic apparatus, metrology systems, adaptable phase array illumination and collector devices, and method thereof

WO2024132407 Art A1 27. Juni 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024132407
Aktenzeichen: EP23817052
Anmeldetag: 28. November 2023
Veröffentlichung: 27. Juni 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/29G02F1/01H01Q3/26G01S17/89G01S7/481G02F1/295

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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