Substrate treatment method, method for producing semiconductor device, substrate treatment system, and program

WO2024134907 Art A1 27. Juni 2024

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024134907
Aktenzeichen: EP22969286
Anmeldetag: 23. Dezember 2022
Veröffentlichung: 27. Juni 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L21/318H01L23/532

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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