Composition, and method for producing semiconductor substrate

WO2024135316 Art A1 27. Juni 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024135316
Aktenzeichen: EP23906682
Anmeldetag: 4. Dezember 2023
Veröffentlichung: 27. Juni 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G77/28C08L83/14G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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