Substrate treatment device, substrate treatment system, and substrate treatment method
WO2024142570
Art A1
4. Juli 2024
Anmelder: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024142570
- Aktenzeichen
- EP23911354
- Anmeldetag
- 24. Oktober 2023
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
SCREEN Holdings
Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.
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