Compound, polymer compound, photosensitive surface treatment agent, laminate, substrate for pattern formation, transistor, pattern formation method, and transistor manufacturing method

WO2024142909 Art A1 4. Juli 2024

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024142909
Aktenzeichen: EP23911690
Anmeldetag: 12. Dezember 2023
Veröffentlichung: 4. Juli 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C07C271/12C08F120/36G03F7/004G03F7/38H01L21/288H01L21/336H01L29/786H10K10/46H10K50/10H10K59/10H10K59/12H10K59/125H10K59/131H10K85/10H10K85/60

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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