Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for producing electronic device

WO2024147287 Art A1 11. Juli 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024147287
Aktenzeichen: EP23914773
Anmeldetag: 20. Dezember 2023
Veröffentlichung: 11. Juli 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C381/12C07D327/06C07D333/46C07D333/76C08F20/10C09K3/00G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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