Optisches System und Lithographieanlage

WO2024149823 Art A1 18. Juli 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024149823
Aktenzeichen: EP24700741
Anmeldetag: 11. Januar 2024
Veröffentlichung: 18. Juli 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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