Radiation-sensitive composition, method for forming resist pattern, and compound

WO2024150553 Art A1 18. Juli 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024150553
Aktenzeichen: EP23916169
Anmeldetag: 30. November 2023
Veröffentlichung: 18. Juli 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C69/36C07C381/12C07D317/64G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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