Pattern formation method and method for manufacturing electronic device

WO2024150571 Art A1 18. Juli 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024150571
Aktenzeichen: EP23916186
Anmeldetag: 11. Dezember 2023
Veröffentlichung: 18. Juli 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40G02B5/20G02B5/22G03F7/038G03F7/039G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von