Vorrichtung und Verfahren zur Kontaminationsreduzierung in einem Optischen System für die Mikrolithographie

WO2024153468 Art A1 25. Juli 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024153468
Aktenzeichen: EP24701094
Anmeldetag: 3. Januar 2024
Veröffentlichung: 25. Juli 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00F04B37/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Optik & Fototechnik

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