Progressively energized electrostatic clamp for a lithography apparatus

WO2024156457 Art A1 2. August 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024156457
Aktenzeichen: EP23838119
Anmeldetag: 22. Dezember 2023
Veröffentlichung: 2. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/683B23Q3/15C23C14/04G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von