Target Material Storage Assembly For an Euv Radiation Source
WO2024156525
Art A1
2. August 2024
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024156525
- Aktenzeichen
- EP24700755
- Anmeldetag
- 11. Januar 2024
- Veröffentlichung
- 2. August 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B22F3/15H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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