Sample holder, charged particle beam device, and charged particle beam system

WO2024157327 Art A1 2. August 2024

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024157327
Aktenzeichen
EP23918300
Anmeldetag
23. Januar 2023
Veröffentlichung
2. August 2024
Rechtsraum
WO
IPC
H01J37/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen