Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive composition, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern-forming method, and method for producing electronic device

WO2024157709 Art A1 2. August 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024157709
Aktenzeichen: EP23918663
Anmeldetag: 25. Dezember 2023
Veröffentlichung: 2. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F8/42C08G18/83C08K5/56C08L101/00G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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