Plasma processing system
WO2024158116
Art A1
2. August 2024
Anmelder: PLASMAPP CO., LTD., KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024158116
- Aktenzeichen
- EP23918751
- Anmeldetag
- 15. November 2023
- Veröffentlichung
- 2. August 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/32A61N1/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- PLASMAPP CO., LTD.
KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
KAIST
Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.
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