Methods and apparatus for calibration of substrate processing chamber placement via imaging
WO2024158630
Art A1
2. August 2024
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024158630
- Aktenzeichen
- EP24747577
- Anmeldetag
- 18. Januar 2024
- Veröffentlichung
- 2. August 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/67H01L21/68C30B25/16C30B25/12C23C16/458C23C16/52H01L21/677H01L21/687
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.780 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.