Gas flow conversion apparatus for silicon carbide horizontal epitaxial furnace

WO2024159716 Art A1 8. August 2024

Anmelder: FUDAN UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024159716
Aktenzeichen: EP23919281
Anmeldetag: 18. Juli 2023
Veröffentlichung: 8. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C30B25/14C30B29/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUDAN UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Fudan University

Die Fudan University ist eine chinesische Eliteuniversität mit Sitz in Shanghai und breiter Forschung in Medizin und Chemie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie organische Chemie, ergänzt durch Pharma und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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