Microporous layer for gas diffusion layer, and preparation method therefor

WO2024159741 Art A1 8. August 2024

Anmelder: South China University of Technology 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024159741
Aktenzeichen: EP23919306
Anmeldetag: 25. August 2023
Veröffentlichung: 8. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01M4/88H01M4/86

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: South China University of Technology
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 South China University of Technology

Chinesische Universität mit Sitz in Guangzhou, die als Anmelderin von Patenten aus ihrer technischen und naturwissenschaftlichen Forschung auftritt. Schwerpunkte liegen unter anderem in Materialwissenschaft und Maschinenbau.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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