Processes for maintenance of modules of light sources in semiconductor photolithography
WO2024161222
Art A1
8. August 2024
Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024161222
- Aktenzeichen
- EP24706188
- Anmeldetag
- 11. Januar 2024
- Veröffentlichung
- 8. August 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06N20/00G03F7/00G06N5/01H01S3/00H01S3/225H01S3/23H01S3/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CYMER, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
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