Processes for maintenance of modules of light sources in semiconductor photolithography

WO2024161222 Art A1 8. August 2024

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024161222
Aktenzeichen
EP24706188
Anmeldetag
11. Januar 2024
Veröffentlichung
8. August 2024
Rechtsraum
WO
IPC
G06N20/00G03F7/00G06N5/01H01S3/00H01S3/225H01S3/23H01S3/30
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
CYMER, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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