Method for nonlinear optical measurement of parameter
WO2024165217
Art A1
15. August 2024
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024165217
- Aktenzeichen
- EP23828181
- Anmeldetag
- 14. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 15. August 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/00G01B11/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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