Lithographic apparatus and method to calibrate a position measurement system of a lithographic apparatus

WO2024165259 Art A1 15. August 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024165259
Aktenzeichen: EP24700286
Anmeldetag: 10. Januar 2024
Veröffentlichung: 15. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G01B9/02055

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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