Optisches Element mit Polierschicht, Lithographieanlage aufweisend das Optische Element und Verfahren zum Herstellen des Optischen Elements

WO2024165318 Art A1 15. August 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024165318
Aktenzeichen: EP24701930
Anmeldetag: 24. Januar 2024
Veröffentlichung: 15. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/10G02B5/08G03F7/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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