Radiation-sensitive composition and pattern formation method

WO2024166630 Art A1 15. August 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024166630
Aktenzeichen: EP24753076
Anmeldetag: 17. Januar 2024
Veröffentlichung: 15. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F20/10C08F212/08C08F220/24C08F220/30C08F220/38C08L101/02G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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