Resist composition, method for forming resist pattern, compound, and acid diffusion control agent

WO2024166822 Art A1 15. August 2024

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024166822
Aktenzeichen: EP24753265
Anmeldetag: 2. Februar 2024
Veröffentlichung: 15. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D205/08C07D207/16C07D207/34C07D213/79C07D231/04C07D231/16C07D233/68C07D249/10C07D263/34C07D333/76G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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