Multilayer molecular film photoresist having molecular line structure comprising organic monomers having cross-linking functional groups, and preparation method therefor

WO2024167349 Art A1 15. August 2024

Anmelder: IUCF-HYU (INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY) 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024167349
Aktenzeichen: EP24753670
Anmeldetag: 8. Februar 2024
Veröffentlichung: 15. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/09G03F7/16G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: IUCF-HYU (INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY)
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Iucf-hyu (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University)

Die IUCF-HYU verwaltet Forschungsergebnisse und Patente der Hanyang University in Südkorea. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt um anorganische Chemie und Software. Anmeldungen reichen von 2002 bis 2025.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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