System and method for reducing particle formation in a process chamber of an ion implanter

WO2024167666 Art A1 15. August 2024

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024167666
Aktenzeichen: EP24753777
Anmeldetag: 23. Januar 2024
Veröffentlichung: 15. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/317H01J37/08H01L21/265

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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