Thin film deposition device

WO2024169608 Art A1 22. August 2024

Anmelder: CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED, ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC., ACM RESEARCH KOREA CO., LTD. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024169608
Aktenzeichen: EP24755982
Anmeldetag: 30. Januar 2024
Veröffentlichung: 22. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/455C23C16/458C23C16/54

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED
ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
ACM RESEARCH KOREA CO., LTD.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

260 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von