Metrology method and associated metrology device

WO2024170193 Art A1 22. August 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024170193
Aktenzeichen: EP24700997
Anmeldetag: 17. Januar 2024
Veröffentlichung: 22. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G01Q60/32G01Q70/14G01N29/06G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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