Method for estimating ease of fine powder occurrence in polysilicon, estimation device, method for producing polysilicon, trained model generation device and generation method
WO2024171706
Art A1
22. August 2024
Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024171706
- Aktenzeichen
- EP24756557
- Anmeldetag
- 18. Januar 2024
- Veröffentlichung
- 22. August 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B33/02G01N33/00G06T7/00G06T7/60G06T7/62
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKUYAMA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokuyama
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.
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Vertreten von
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