Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive composition, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern-formation method, and electronic device manufacturing method

WO2024171930 Art A1 22. August 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024171930
Aktenzeichen: EP24756777
Anmeldetag: 7. Februar 2024
Veröffentlichung: 22. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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