Vuv laser-sustained plasma light source with long-pass filtering
WO2024173447
Art A1
22. August 2024
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024173447
- Aktenzeichen
- EP24757575
- Anmeldetag
- 14. Februar 2024
- Veröffentlichung
- 22. August 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J65/04H01J61/02H01J61/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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