Maskenmetrologische Messvorrichtung und Verfahren zum Untersuchen einer Fotomaske
WO2024175274
Art A1
29. August 2024
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH, CARL ZEISS SMS LTD. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024175274
- Aktenzeichen
- EP24700999
- Anmeldetag
- 17. Januar 2024
- Veröffentlichung
- 29. August 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/00G03F1/84G03F1/72
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CARL ZEISS SMT GMBH
CARL ZEISS SMS LTD. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
2.391 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.