Lithographic apparatus, inspection system, and method of implementing parallel sensor-heads with a common radiation source

WO2024175303 Art A1 29. August 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024175303
Aktenzeichen: EP24702706
Anmeldetag: 26. Januar 2024
Veröffentlichung: 29. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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