Material and method for roughness reduction of substrates

WO2024176258 Art A1 29. August 2024

Anmelder: INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY MADRAS (IIT MADRAS) 🇮🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024176258
Aktenzeichen: EP24759928
Anmeldetag: 20. Februar 2024
Veröffentlichung: 29. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/32H01L21/768C23C4/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY MADRAS (IIT MADRAS)
Land: 🇮🇳 Indien

🇮🇳 Indian Institute of Technology Madras (iit Madras)

Das Indian Institute of Technology Madras (IIT Madras) ist eine der führenden staatlichen technischen Hochschulen Indiens mit Sitz in Chennai. Das Patentportfolio verteilt sich breit über Nachrichtentechnik, Mess- und Prüftechnik sowie Software, ergänzt um Medizintechnik und anorganische Chemie. Die Anmeldungen aus den Jahren 2018 bis 2025 spiegeln ein interdisziplinäres Forschungsprofil von Wasserstofftechnologie bis Bioinformatik wider.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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