Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2024176704 Art A1 29. August 2024

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024176704
Aktenzeichen: EP24760011
Anmeldetag: 25. Januar 2024
Veröffentlichung: 29. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von