Material for high recording density magnetic layers, magnetoresistive storage element, and method for producing material for high recording density magnetic layers
WO2024176918
Art A1
29. August 2024
Anmelder: NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNO, NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024176918
- Aktenzeichen
- EP24760219
- Anmeldetag
- 14. Februar 2024
- Veröffentlichung
- 29. August 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H10B61/00H10N50/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNO
NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute for Materials Science
Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.
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