Photosensitive element and method for forming resist pattern

WO2024177101 Art A1 29. August 2024

Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024177101
Aktenzeichen: EP24760399
Anmeldetag: 21. Februar 2024
Veröffentlichung: 29. August 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F12/08G03F7/20G03F7/027G03F7/029H05K3/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von