Layered substrate with ruthenium layer and method for producing

WO2024177780 Art A1 29. August 2024

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024177780
Aktenzeichen
EP24760754
Anmeldetag
25. Januar 2024
Veröffentlichung
29. August 2024
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/16C23C14/58B24B37/04
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
APPLIED MATERIALS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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