Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

WO2024181371 Art A1 6. September 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024181371
Aktenzeichen: EP24763851
Anmeldetag: 26. Februar 2024
Veröffentlichung: 6. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D211/94C07D327/06C08F212/00C08F220/10C09K3/00G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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