Method for selectively modifying substrate surface, method for producing surface-treated substrate, and composition

WO2024181373 Art A1 6. September 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024181373
Aktenzeichen: EP24763853
Anmeldetag: 26. Februar 2024
Veröffentlichung: 6. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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