Radiation-sensitive composition, pattern formation method, and radiation-sensitive acid generation agent

WO2024181434 Art A1 6. September 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024181434
Aktenzeichen: EP24763913
Anmeldetag: 27. Februar 2024
Veröffentlichung: 6. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C09K3/00G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik

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