Secondary silica particles, film-forming composition containing said secondary silica particles, and method for producing secondary silica particles
WO2024181579
Art A1
6. September 2024
Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024181579
- Aktenzeichen
- EP24764056
- Anmeldetag
- 4. März 2024
- Veröffentlichung
- 6. September 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B33/18B01D71/02B01D71/16B01D71/58B01D71/64C01B33/148C08K3/36C08K9/06C08L87/00C08L101/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NISSAN CHEMICAL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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