Improved Gas Laser

WO2024184021 Art A1 12. September 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING SE 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024184021
Aktenzeichen: EP24705107
Anmeldetag: 12. Februar 2024
Veröffentlichung: 12. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/041H01S3/036H01S3/223H01S3/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING SE
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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