Adaptives Optisches Modul für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

WO2024184207 Art A1 12. September 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024184207
Aktenzeichen: EP24709331
Anmeldetag: 1. März 2024
Veröffentlichung: 12. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G02B7/185H02N2/00H02N2/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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