Dust management for a gas discharge chamber

WO2024184833 Art A1 12. September 2024

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024184833
Aktenzeichen: EP24710862
Anmeldetag: 7. März 2024
Veröffentlichung: 12. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/034H01S3/036H01S3/104H01S3/0971H01S3/225H01S3/23

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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