Aberration corrector, charged particle beam device comprising same, and control method for controlling same

WO2024185110 Art A1 12. September 2024

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024185110
Aktenzeichen: EP23926320
Anmeldetag: 9. März 2023
Veröffentlichung: 12. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/153H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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