Radiation-sensitive composition and pattern formation method

WO2024185308 Art A1 12. September 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024185308
Aktenzeichen: EP24766683
Anmeldetag: 18. Januar 2024
Veröffentlichung: 12. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D333/76C08F20/10G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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