Composition, method for cleaning semiconductor substrate, and method for producing electronic device

WO2024185373 Art A1 12. September 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024185373
Aktenzeichen: EP24766748
Anmeldetag: 7. Februar 2024
Veröffentlichung: 12. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/26C11D7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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