Plasma etching method

WO2024185953 Art A1 12. September 2024

Anmelder: AJOU UNIVERSITY INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUN 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024185953
Aktenzeichen: EP23926526
Anmeldetag: 6. November 2023
Veröffentlichung: 12. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/311H01L21/3065C09K13/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AJOU UNIVERSITY INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUN
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Ajou University Industry-Academic Cooperation Foundation

Die Ajou University Industry-Academic Cooperation Foundation ist die Patentverwertungsstelle der südkoreanischen Ajou-Universität. Das Portfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Pharma/Biotechnologie, ergänzt durch Mess- und Softwaretechnik. Die Titel reichen von Motorüberspannungsschutz bis zur Bodenfeuchteschätzung mittels Mikrowellen.

567 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von